Get Adobe Flash player

Filmy promocyjne

 

Jesteś tutaj

Strona główna » Infrastruktura

Zadania

Wykonywanie układów scalonych na bazie nanostruktur (warstw wyhodowanych metodą MBE) oraz elementów obwodów kwantowych – kropek kwantowych i drutów kwantowych.


Opis aparatury

Fotolitografia jest najbardziej rozpowszechnioną metodą wykonywania układów scalonych pozwalająca na osiągnięcie minimalnych rozmiarów elementów ~25 nm. Proces fotolitografii składa się z kilku etapów:

1) wykonanie maski;

2) naniesienie fotorezystu;

3) naświetlanie przez maskę;

4) trawienie;

5) napylanie próżniowe metali;

6) profilowanie precyzyjne;

7) zamocowanie przewodów do kontaktów (pasą hydrauliczną).

Aparatura ww. pozwała na wykonanie tych niezbędnych etapów procesu technologicznego. Wymienione przyrządy powinni być certyfikowane i spełniać wymagania bezpieczeństwa, stawiane do pracowni studenckich, bowiem na aparaturze tej będą wykonywane prace dyplomowe inżynierskie i magisterskie. 

Proces litografii elektronowej polega na trawieniu wiązką elektronową SEM otrzymanych metodą MBE nanostruktur. Do programu komputerowego sterującego działaniem SEM zakłada się maska przyrządu w poszarzeniu „bitmap”, który należy wykonać. Po wytrawienie struktury należy wykonać kontakty napylaniem próżniowym  metali (złoto) oraz zamocować przewody prasą hydrauliczną. Jest to najbardziej zaawansowana technologia wykonania układów nano-elektronicznych, pozwalająca na osiągnięcie rozdzielczości około 1 nm. Będzie wykorzystywana dla wykonania prac magisterskich i doktorskich.